ASML：全国最大IC光刻机&半导体开采制造商半岛彩票

ASML：全国第一泰半导体制造开采供应商

资格40年的发展，通过约束收购同行和上游供应商、变嫌并引颈行业技巧打破，ASML现已成为全国第一大 半导体制造开采供应商。荷兰的阿斯麦（ASML Holding N.V.，ASML）由Philips和ASMI结伴成立于1984年， 1995年登陆阿姆斯特丹证交所和纽交所上市。经过40年的发展，ASML现已成为全国半导体开采公司TOP5之 一，亦然全国最大的IC光刻机厂商，基本操纵了包括ArFi、EUV光刻机在内的中高端光刻机市集。2023年， ASML散伙销售额约300亿好意思元，全国市占率28%，位列全国半导体开采厂商第别称。抑遏2024.10.13，ASML （ASML.O）市值约3360亿好意思元。

发展历程：从创业之初的寝苫枕块，几经打破后终成光刻巨东说念主

ASML的发展历史可大体分为五个阶段。ASML于1984年景立，曾在之后几年的起步阶段几次面对收歇，后经 历了1990s的奠基阶段和2000s的技巧实力突飞大进，直至2010年才运行散伙镇定盈利。2010-2021年ASML凭借 中高端的浸没式和EUV光刻机充共享受半导体扩产的红利。2022年以来，ASML运行发力普及光刻机的产能与 既有光刻机的迭代升级，2023年顺利推出首台High-NA EUV光刻机EXE 5000。

股权结构：按单体看较为漫衍，但按地域看靠拢于好意思国

ASML的股权较为漫衍，公司前几大鼓吹均为泰西机构投资者。抑遏 2023年末，公司前两大鼓吹分袂为Capital Research and Management Company（好意思国老本究诘与防守公司，捏股10.32%）和Blackrock Inc. （好意思国贝莱德，捏股7.95%）。此外，7名中枢高管仅捏有0.03%的公司 股份。分地域来看，抑遏2024年8月，好意思国地区的投资者共计捏有ASML 47%的股份。

居品布局：专注于IC前说念光刻机及配套量测开采

ASML主营业务包含开采系统（Net system）和已安设开采防守（IBM，Installed Base Management），其中 开采系统收入占比在70%以上。开采系统居品分为IC前说念光刻机和量测开采两大类，其中IC光刻机应用于IC 前说念光刻工序中的曝光措施，在开采系统中的收入占比高出95%。按照光源种类对ASML的IC光刻机进一步 拆分，可分为I-line光刻机、DUV光刻机（KrF、ArF、ArFi）和EUV光刻机。

畴昔十年功绩郑重增长，将来功绩带领相对乐不雅

ASML预期2024年营收达275亿欧元（约合2150亿东说念主民币），同比捏平；概念2025、2030年营收分袂达到300- 400亿欧元、440-600亿欧元。2012-2023年，ASML的营收和归母净利润CAGR分袂为17%和19%。历史上 ASML的营收和利润基本奴婢全国半导体开采行业波动，2023年出现彰着背离，主要原因系ASML DUV浸没 式光刻机出口禁令顺利前来自中国大陆的多数积压订单快速托付。2024H1，ASML散伙营收115亿欧元，同 比-16%；归母净利润28亿欧元，同比-28%。料想将来，公司料想24Q3营收为67-73亿欧元，同比增长0-9%；2024全年营收同比捏平；2025年营收概念保管300-400亿欧元，2030年营收概念440-600亿欧元。

研发进入&老本开支快速增长，保险新品研发与产能延长

捏续大批的研发进入和快速延长的老本开支为ASML新 品研发与产能延长提供有劲保险。2023年，ASML的研 发用度达40亿欧元，同比+22%；抑遏2023年末研发东说念主 员数目为15500东说念主，研发东说念主数占比达37%；老本开支达 22亿欧元，同比+66%。2012-2023年，ASML的研发费 用和老本开支CAGR分袂为19%、26%，这期间EUV光 刻机为主要研发和老本开销所在，要紧投资名目包括 2013年收购DUV和EUV光源制造商Cymer、2016年收购 电子束量测开采供应商汉微科（HMI）、2017年收购蔡 司SMT 24.9%的股份。23年ASML的ArFi光刻机出货量大幅加多，EUV出货量受产能限制从出货量角度看，ASML出货的IC光刻机以ArFi和KrF光刻机为主。2023年ASML光刻机的出货量为449台 （同比+30%），其中EUV、ArFi、ArF、KrF、I-line光刻机的出货量分袂为53、125、32、184、55台。进入 2024年以来，24Q1公司的光刻机出货量为70台，出现较大下滑（同比-30%、环比-44%），主要系面向中国 大陆之外地区的光刻机出货量大幅减少，而面向中国大陆的光刻机出货量同比仍在增长；24Q2公司的光刻机 出货量为100台，其中ArFi光刻机环比加多12台。 受卡尔蔡司的EUV光学系统产能限制，EUV光刻机的供应急切，托付周期长达16-20个月（ASML光刻机的 平均托付周期为12-18个月），因此2024年的大部分新缔结单会于2026年运行托付。ASML预估2024年、2025 年分袂托付53台、72台EUV光刻机。

24H1 ASML来自中国大陆的营收同比高增，占比同比+15pct达到42%

2023年以来ASML来自中国大陆的营收快速增长，营收占比大幅普及。2023年ASML来自中国大陆的收入为 73亿欧元，同比+149%，占比达到26%，同比+13pct；2024H1来自中国大陆的收入达48亿欧元，同比+128%， 占比同比+15pct达到42%。一方面是受到中国大陆光刻机入口限制约束升级的风险影响，面向中国大陆的大 批积压订单快速托付；另一方面也预示着将来中国大陆晶圆厂扩产的潜在需求焕发。

24H1 ASML存储范畴的新缔结单同比+66%，反应存储市集高景气

分下流来看，频年来ASML逻辑（含代工）范畴的新缔结单占比高于存储，但存储订单的增速更快，占比逐 步提高。2024H1公司在逻辑和存储范畴分袂取得55亿元和36亿元的开采新缔结单，同比分袂-9%、+66%，存 储范畴新缔结单占比达40%，同比+13pct。可见2024H1由DRAM和NAND主导的存储市集复苏节律彰着快于 逻辑，存储市集有望成为本轮半导体行业及半导体开采行业复苏的主要驱能源。

光源&数值孔径&工艺因子三轮驱动，共促光刻技巧迭代

光刻工艺：光刻机承担曝光这一中枢措施

光刻的基同意趣是运用光将遐想好的电路图形从掩模版或倍缩掩模版上，滚动到晶圆上涂有的光敏性材料 （光刻胶）名义，通过曝光后的显影、刻蚀等工序，使得晶圆上呈现出盼望的电路图案。晶圆名义上光刻胶 的图案是最为基本的电路图案，IC制造中的刻蚀、千里积、离子注入等工艺大多需要以光刻工艺在光刻胶上留 下的图案为基础，因此光刻是IC制造中最为报复的工艺。光刻机仅承担光刻工艺中的曝光措施。完满的光刻工艺包括8个细分措施：脱水烘烤（气相成底膜和增黏）、 旋转涂胶、前烘、曝光、后烘、显影、坚膜烘烤、显影搜检，其中光刻机仅细致曝光措施，涂胶显影开采则 承担除曝光之外的扫数光刻措施。

光刻工艺：步进扫描式为投影式中的主流技巧

投影式光刻机资格了从扫描投影式到步进调换式，再到步进扫描式光刻机的迭代。

（1）扫描投影式：早期 的投影式光刻机为扫描投影式光刻机（Scanner），投影成像比例为1:1，通过一次扫描经过完成扫数这个词硅片的 曝光，属于逐片曝光的神色。瑕疵是难以遐想或者在越来越大的区域上造成精准图像的光学器件，且1:1的投 影成像比例使得愈加轮廓的掩模版制作难度权臣普及。（

2）步进调换式：硅片名义上某个曝光场完成曝光 后，硅片台进行步进畅通，使得下一个曝光场得以不绝曝光。步进调换式光刻机（Stepper）基本或者称心 250nm以上线宽制程的工艺条款，现在仍然应用在芯片非关键层、封装等精度条款相对较低的范畴。

（3）步 进扫描式：步进扫描式光刻机（Stepper&Scanner）通过动态扫描的神色，使得掩模版相对晶圆同步畅通，可 完成26mm×33mm曝光场的曝光，现时曝光场扫描收场后，滚动至下一个曝光场不绝进行扫描曝光，直至整 个晶圆扫数曝光场完成曝光。成绩于有用普及掩模的使用遵守和曝光精度，步进扫描式光刻机现已成为主流 光刻机型，占据光刻机市集份额的70%以上。从180nm节点运行，硅基CMOS工艺多量遴荐步进扫描光刻。

光源系统&光学系统&双工件台为光刻机三大中枢部件

光源系统、光学系统、双工件台为光刻机的三大中枢部件

光刻机的主要构成系统包括：光源系统、光学系统（包括照明系统和投影物镜）、掩模台、掩模传输系统、 工件台、晶圆传输系统、瞄准系统、调平调焦系统、环境抑遏系统、整机框架和减振系统、整机抑遏系统和 整机软件等，其中光源、光学系统、双工件台为光刻机的三大中枢部件，价值量占比约为15%、24%、12%。

光刻机光源包括UV、DUV和EUV，其中EUV技巧难度极高

曝光光源技巧为光刻机提供称心光刻需求的特定波长、线宽以及功率的光束，主要包括UV汞灯光源（G-line 、I-line）、DUV准分子激光光源（KrF、ArF、ArFi），以及EUV光源。UV汞灯光源：光刻机最早遴荐高压汞灯产生的紫外光源，隶属于气体放电光源，汞蒸气被能量激勉，汞原 子最外层电子受到激勉从而跃迁，落回后放出光子，如光刻机使用的G-line（436nm）、I-line（365nm）等。DUV准分子激光光源：准分子激光光源责任介质一般为珍稀气体及卤素气体，并充入惰性气体手脚缓冲剂， 责任气体受到放电激励，在激勉态造成蓦地存在的“准分子”，准分子受激发射跃迁，造成紫外激光输出， 应用于光刻机的光源有KrF（248 nm）和ArF（193 nm）。准分子激光光源的技巧难点在于散伙高调换频率、 高功率和窄线宽，高调换频率、高功率或者提高产率，而窄线宽不错保证集成电路图案的轮廓度，减少色差 对最终光刻成果的影响。

光刻机市集：一超双强格式镇定，晶圆扩产拉动需求增长

全国半导体行业复苏趋势树立，中国大陆半导体开采市集保捏高景气

乘半导体行业需求复苏与国产替代之风，中国大陆半导体开采景气度捏续热潮。2023年11月起，全国半导体 销售额已流畅9个月同比增长，其中2024年1-7月，全国/中国半导体销售额为3373/1025亿好意思元，同比+17%/25%。叠加国产替代趋势，2024Q1中国大陆半导体开采销售额为125亿好意思元，同比+113%，景气度捏续热潮。

每万片月产能的12英寸晶圆产线需要8台驾御的光刻机

月产1万片300mm（12英寸）晶圆厂需要8台驾御的光刻机，本体坐褥线把柄工艺节点和芯片类型略有不同。 从国内具有代表性、月产1万片的3类坐褥线所需的开采成立数目不错看出，工艺节点越先进，所需的开采数 量越多，12英寸晶圆产线多种开采需求是8英寸产线的两倍以上。 工艺节点约束微缩，坐褥线投资成本越高。12英寸坐褥线肇端节点是90nm，8英寸坐褥线节点是350～90nm。 按3万片/月的产能，130nm节点8英寸晶圆产线投资约为14亿好意思元，90nm节点坐褥线投资约为24亿好意思元，而 14nm节点投资需要100亿好意思元，投资成本大幅增长。

ASML中枢壁垒：技巧、生态、资金三重壁垒筑高墙

总起：“技巧+生态+资金”三重壁垒筑高墙

ASML的中枢壁垒可追忆为“技巧+生态+资金”，三者相反相成、统筹兼顾。通过复盘光刻机行业和ASML的发展历程，咱们 发现，光刻巨东说念主的顺利之路离不开技巧、生态、资金三大身分，而这三大身分也锻造了ASML将来捏续操纵行业的雄伟护城河。

1）技巧层面，光刻机围绕分辨率（瑞利准则下进一步分为光源波长、数值孔径、工艺因子）、单机产能、套刻精度这三项关 键概念约束迭代，而ASML如今每别称概念都在引颈行业，成为延续摩尔定律的前锋。

2）生态层面，光刻机制造的产业生态极 为复杂，研发进入成本巨大，不仅需要遍布全国的上中下流产业链通力结合，还需要多方政府相沿。ASML已掌控了光刻机的 光源、光学系统、双工件台这三大最中枢部件的供应，并与TSMC、Intel、Samsung三大头部晶圆厂客户深度结合，导致其他光 刻机整机厂在先进制程可望不行即。

3）资金层面，ASML早期得到了头部客户的股权投资，中后期又在本人多量盈利以及荷兰政 府的补贴/减税相沿下，捏续大批进入资金研发、收购供应商、猖厥延长产能。

技巧层面：四次要紧打破，ASML终成延续摩尔定律的前锋

推出PAS5500、双工件台、浸没式光刻机和EUV光刻机四大里程碑事件使得ASML在光刻机范畴的地位逐渐 不行撼动。1991年ASML推出PAS 5500光刻机，其遴荐模块化遐想，使得客户可把柄不同工艺摆脱选配不同 部件包（兼容各式光源、晶圆尺寸、镜头和投影/步进模式），同期开采便于升级和爱戴，提高了光刻机在产 线上的使用率；2001年，ASML推出双工件台技巧，极大提高了光刻机的产能，奠定了ASML的市集主导地 位；2006年在Nikon不看好浸没式光刻机技巧情形下，ASML接管了浸没式光刻路子，推出NXT平台的浸没式 量产型居品，绕开其时157nm光源技巧困扰，将光源波长等效镌汰至134nm；2012年，TSMC、Intel、三星共 同投资ASML王人集研发EUV光刻机，2013年ASML收购光刻光源制造商Cymer，处置EUV产能问题并推出首台 商用第二代0.33 NA EUV光刻机NXE 3300，由此操纵EUV光刻机及源流进制程市集。

国产光刻机：前路漫漫亦灿灿，吾将高下而求索

好意思日荷意图通过光刻机管制策略限制中国大陆先进制程发展

频年来好意思日荷先进光刻机管制策略约束加码，现在我国脉土晶圆厂仅可摆脱入口前说念低端DUV光刻机和I-line光刻机， 芯片制程宽敞被限制在锻练制程范畴。此外，天然现在ASML仍可为我国脉土晶圆厂提供光刻机的爱戴管事，但在涉 及需要从好意思国或欧洲发送关键零部件或遴荐相干技巧时会受到一定限制。

具体来看不同国度出台的光刻机管制策略：

（1）好意思国：2022年好意思国商务部出台1007法案，光刻机管控规模为用于16/14nm以下的逻辑芯片、128层以上NAND存 储芯片以及半间距为18nm或以下的DRAM芯片的制造。2023年的1017法案进一步细化对光刻机中枢地能参数进行限 制，条款ASML对华出口2000i及后续浸没式光刻机需事前得到许可证，1980i系列光刻机出口需要限制用于锻练制程。

（2）日本：2023年5月发布《外汇与对外营业法》修正案，光刻机方面限制光源波长小于193nm或分辨率小于45nm （光刻工艺因子k1按0.25盘算）的光刻机出口，等同于将Nikon的扫数浸没式光刻机纳入管制。

（3）荷兰：2024年1月1日起，ASML的2000i及后续浸没式光刻机出口需央求许可证，与好意思国1017法案保捏一致；2024年9月7日起，ASML的1970i和1980i浸没式光刻机出口需向荷兰政府而非好意思国政府央求许可证。

2023年以来ASML已将较多DUV光刻机托付中国大陆

ASML为中国大陆IC光刻机的最主要入口开始，2023年以来光刻机快速托付。2023年中国大陆IC光刻机入口 总和为87亿好意思元，同比+120%，其中从荷兰入口额72亿好意思元（基本稳妥同期ASML来自中国大陆的收入）， 同比+184%，荷兰入口额占入口总和的83%，同比+18pct。2024年1-8月，中国大陆从荷兰入口IC光刻机的金 额为55亿好意思元，同比捏续大增67%。2023年以来，中国大陆从荷兰入口IC光刻机的均价大幅提高，标明 ASML已将较多光刻机快速托付至我国脉土晶圆厂。

此为论述精编节选，论述原文：

《电子开采-国外半导体开采巨头巡礼系列：详解光刻巨东说念主ASML顺利之奥秘-东吴证券-20241015【90页】》

论述开始：【价值目次网】半岛彩票